9月3日，美国知名投资银行高盛发布报告指出，中国在先进芯片制造领域相较西方国家仍存在约20年的技术差距。
报告特别提到，中国光刻设备制造商与美国领先企业相比，技术水平至少落后两代以上。作为半导体生产流程中的关键环节，光刻技术已成为制约中国自主生产高端芯片的主要障碍。目前全球最先进的光刻机由荷兰企业ASML掌握，而由于其设备中含有大量源自美国的组件，因此受到美国出口管制政策的影响，无法向中国出售包括极紫外光（EUV）在内的高端机型。
高盛分析认为，美国对中芯国际等本土晶圆厂实...
9 月 28 日消息，根据 tom's hardware 的报道，俄罗斯科学院微结构物理研究所（由德米特里・库兹涅佐夫公开）发布了一项关于国产极紫外（euv）光刻设备的长期发展规划。该设备工作波长为 11.2 纳米，是对该机构在去年 12 月所披露技术信息的进一步扩展和深化。新项目计划从 2026 年启动，初期聚焦于 40 纳米制造工艺，并逐步推进至 2037 年，目标实现亚 10 纳米（sub-10nm）制程能力。相较此前的一些设想，这份路线图显得更具现实操作性，但其实际可...
在半导体制造领域，工艺节点越先进，对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产，几乎完全依赖EUV（极紫外）光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备，因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。
那么，在这些行业巨头中，谁掌握的EUV光刻机数量最多？调研机构BOFA发布的数据显示了从2021年至2025年的EUV光刻机分布情况：
作为全球最大的晶圆代工企业，并且长期领跑先进制程的量产进度，台积电近年来一直是EUV设备的最大买家。除2024年仅引...
10月13日，备受瞩目的半导体行业动态持续升温。据深圳官方透露，在即将于本月举行的2025湾芯展上，被誉为“中国版阿斯麦”的新凯来（SiCarrier）将带来令人期待的新惊喜。
这一消息源自10月10日上午深圳市政府新闻办召开的新闻发布会。会上，深圳市发展改革委主任郭子平正式宣布，以“芯启未来，智创生态”为主题的2025湾区半导体产业生态博览会（简称“湾芯展”）将于10月15日至17日在深圳会展中心（福田）隆重举行。
发布会上，郭子平特别点名本土明星企业新凯来，并明确表示，...
10月26日，我国在光刻胶研究领域迎来重要进展！
据《科技日报》报道，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者，创新性地采用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析，并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已发表于国际权威期刊《自然·通讯》。
作为集成电路制造中的核心技术之一，光刻工艺推动着芯片制程不断向更小尺寸演进。
通俗地说，光刻胶就像是芯片制造过程中的“雕刻颜料”，其关键功能是将...
11月3日资讯，euv工艺已成为5nm节点之后不可或缺的关键技术。目前全球仅荷兰asml能够制造euv光刻机，而在euv光刻胶领域，日本则展现出强大优势。面向2nm及更先进制程，日本三大化工巨头正加速产能扩张。
东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）近日宣布，将投资200亿日元（约1.3亿美元）在韩国平泽建设一座光刻胶生产基地，计划于2030年投入运营。
平泽聚集了三星、SK海力士等主要半导体制造商，是全球重要的芯片生产中心。新工厂建成后，东京应化的韩国产能预计将提...
12月15日消息，阿斯麦向中国出口的光刻机技术代际差距究竟有多大？据其首席执行官克里斯托夫·富凯公开表态，当前对华出口的设备，相较最先进的高数值孔径（high-na）光刻技术，整整落后八代。
近日，阿斯麦CEO克里斯托夫·富凯在媒体采访中明确指出：目前销往中国大陆的光刻机，技术水平仅相当于该公司2013至2014年间面向欧美客户交付的同档产品，技术代差超过十年。
“这种差距不是一两年，而是实打实的八年技术迭代鸿沟。”他补充道，“相当于我们把上一代、上两代、甚至更早的平台持续延...